Physical Vapor Deposition

भेटेक सेमीकन्डक्टर फिजिकल भाप डिपोजिसन (PVD) एक उन्नत प्रक्रिया प्रविधि हो जुन सतहको उपचार र पातलो फिल्मको तयारीमा व्यापक रूपमा प्रयोग गरिन्छ। PVD टेक्नोलोजीले ठोस वा तरल पदार्थबाट ग्यासमा प्रत्यक्ष रूपान्तरण गर्न र लक्षित सब्सट्रेटको सतहमा पातलो फिल्म बनाउन भौतिक विधिहरू प्रयोग गर्दछ। यस प्रविधिसँग उच्च परिशुद्धता, उच्च एकरूपता र बलियो आसंजनको फाइदाहरू छन्, र अर्धचालकहरू, अप्टिकल उपकरणहरू, उपकरण कोटिंग्स र सजावटी कोटिंगहरूमा व्यापक रूपमा प्रयोग गरिन्छ। हामीसँग छलफल गर्न स्वागत छ!

सोधपुछ पठाउनुहोस्

उत्पादन विवरण

भेटेक सेमीकन्डक्टर एक चीन निर्माता हो जसले भौतिक भाप डिपोजिसन प्रक्रियामा उन्नत अर्धचालक सामग्री आपूर्ति गर्दछ।SiC लेपित क्रूसिबल, ग्लासी कार्बन क्रुसिबल,SiC कोटिंग ग्रेफाइट हीटर, इलेक्ट्रोन बीम गन वाष्पीकरण क्रूसिबल।

PVD प्रक्रियाको आधारभूत सिद्धान्तहरू

भौतिक भाप जम्मा गर्ने प्रक्रियाहरूमा सामान्यतया वाष्पीकरण, स्पटरिङ, र आयन प्लेटिङ जस्ता विशिष्ट विधिहरू समावेश हुन्छन्। जुनसुकै विधि प्रयोग गरियोस्, भौतिक भाप निक्षेपको आधारभूत सिद्धान्त भनेको उच्च-तापमान ताप वा आयन बमबारीबाट स्रोतबाट सामग्रीलाई वाष्पीकरण गर्नु हो। भ्याकुम वा कम-दबाव वातावरणमा वाष्पीकृत सामग्री परमाणु वा अणुहरूको रूपमा चल्छ र सब्सट्रेटको सतहमा पातलो फिल्ममा गाढा हुन्छ। यो प्रक्रिया मुख्यतया भौतिक माध्यमद्वारा प्राप्त गरिन्छ, यसरी सामग्रीको शुद्धतामा रासायनिक प्रतिक्रियाहरूको प्रभावबाट बच्न।

भौतिक भाप निक्षेप प्रविधिको फाइदाहरू

उच्च शुद्धता र उच्च घनत्व: PVD जम्मा गरिएका फिल्महरूमा सामान्यतया उच्च शुद्धता र घनत्व हुन्छ, जसले कोटिंगको प्रदर्शनमा उल्लेखनीय रूपमा सुधार गर्न सक्छ, जस्तै पहिरन प्रतिरोध, जंग प्रतिरोध र कठोरता।

बलियो फिल्म आसंजन: PVD प्रक्रियाले सब्सट्रेटमा बलियो टाँसिएको फिल्म बनाउन सक्छ, उत्पादनको सेवा जीवन विस्तार गर्दै, प्रयोगको क्रममा फिल्मलाई छिलाउन सजिलो छैन भन्ने सुनिश्चित गर्दै।

सामग्री चयन को एक विस्तृत दायरा: PVD टेक्नोलोजी विभिन्न प्रकारका सामग्रीहरूमा लागू गर्न सकिन्छ, धातु, सिरेमिक र मिश्र धातुहरू, र विभिन्न कार्यात्मक कोटिंगहरू, जस्तै प्रवाहकीय, इन्सुलेट, गर्मी प्रतिरोधी र एन्टि-अक्सिडेशन कोटिंगहरू तयार गर्न सकिन्छ।

पर्यावरण संरक्षण र दिगोपन: रासायनिक भाप डिपोजिसन (CVD) जस्ता प्रक्रियाहरूसँग तुलना गर्दा, भौतिक भाप निक्षेप (PVD) प्रक्रिया अधिक वातावरण मैत्री छ, हानिकारक ग्याँसहरूको उत्पादन समावेश गर्दैन, र वातावरणमा प्रदूषण कम गर्दछ।

PVD प्रविधिको आवेदन

अर्धचालक उद्योग: अर्धचालक निर्माणमा, भौतिक भाप डिपोजिसन प्रायः पातलो फिल्म इलेक्ट्रोडहरू, प्रसार अवरोधहरू र मेटल इन्टरकनेक्टहरू तयार गर्न प्रयोग गरिन्छ कि कम्पोनेन्टहरूमा राम्रो चालकता र स्थिरता छ।

अप्टिकल उपकरणहरू: भौतिक भाप डिपोजिसन टेक्नोलोजी व्यापक रूपमा अप्टिकल कोटिंग्समा प्रयोग गरिन्छ, जस्तै ऐना र लेन्सहरूको लागि एन्टी-रिफ्लेक्टिभ कोटिंग्स, र अप्टिकल उपकरणहरूको प्रदर्शन सुधार गर्न अप्टिकल फिल्टरहरूको निर्माण।