सिरेमिक इलेक्ट्रोस्टेटिक चक

सेमीकन्डक्टर उत्पादन प्रक्रियाहरू, विशेष गरी वेफर प्रशोधन, भ्याकुम वातावरणमा गरिन्छ, र मेकानिकली क्ल्याम्पिङ वेफर्सहरू बोक्न्छन्। 

निश्चित जोखिमहरू। जब बल क्ल्याम्पिङ बिन्दुमा केन्द्रित हुन्छ, भंगुर सिलिकन वेफर्सले साना टुक्राहरू बहाउन सक्छ, जसले वेफर उत्पादनमा गम्भीर क्षति पुर्‍याउँछ।

यस अवस्थामा, सिरेमिक इलेक्ट्रोस्टेटिक चक एक राम्रो विकल्प हुन्छ, जसले इलेक्ट्रोस्टेटिक बलद्वारा वेफरलाई फिक्स गर्दछ। इलेक्ट्रोस्ट्याटिक बलले वेफरमा समान रूपमा कार्य गर्दछ, त्यसैले प्रक्रियाको शुद्धता सुधार गर्दै वेफरलाई सपाट रूपमा फिक्स गर्न सकिन्छ।

सान्दर्भिक अनुसन्धान पत्रहरूका अनुसार, सिरेमिक इलेक्ट्रोस्टेटिक चकमा अन्य इलेक्ट्रोस्टेटिक चकहरू भन्दा बलियो सक्शन हुन्छ। उदाहरण को लागी, सिरेमिक इलेक्ट्रोस्टेटिक चक PET फिल्म इलेक्ट्रोस्टेटिक चक भन्दा धेरै बलियो सक्शन छ।

सिरेमिक चक सामान्यतया उच्च-प्रदर्शन सिरेमिक सामग्रीहरू जस्तै Al2O3, AlN वा SiC, जसमा उच्च ताप प्रतिरोध, इन्सुलेशन र जंग प्रतिरोध हुन्छ। पोरस SiC सिरेमिक चक चरम तापक्रममा मात्र स्थिर हुँदैन, तर उत्पादन प्रक्रियाको क्रममा रासायनिक अभिकर्मक र प्लाज्मा नक्काशीको कारणले सिरेमिक ई-चकलाई क्षय हुनबाट पनि प्रभावकारी रूपमा रोक्छ।

तापमान नियन्त्रण: सिरेमिक सामग्रीको उच्च थर्मल चालकता र स्थिर थर्मल गुणहरूले एल्युमिना सिरेमिक भ्याकुम चकलाई प्रभावकारी रूपमा तापमान नियन्त्रण गर्न सक्षम बनाउँछ, जसले गर्दा प्रक्रियाको क्रममा तापक्रम वितरणलाई अनुकूलन गर्दछ।

वैक्यूम अनुकूलन क्षमता: सिरेमिक इलेक्ट्रोस्टेटिक चक भ्याकुम वातावरणको लागि उपयुक्त छ, विशेष गरी कम-दबाव र उच्च-परिशुद्धता नक्काशी प्रक्रियाहरूमा।

कम कण उत्पादन: पोरस SiC सिरेमिक E-चकमा चिल्लो सतह हुन्छ, जसले वेफर फिक्सिङको समयमा कण प्रदुषण घटाउन सक्छ र उत्पादनको उपज सुधार गर्न मद्दत गर्छ।

आवेदन: मुख्यतया सेमीकन्डक्टर निर्माणमा प्रयोग गरिन्छ, छुट्याउन मिल्ने सिरेमिक इलेक्ट्रोस्टेटिक चक सटीक स्थिति र स्थिरता प्रदान गर्दछ, जुन लिथोग्राफी, नक्काशी र अन्य अर्धचालक वेफर प्रशोधन उत्पादन प्रक्रियाहरूको लागि धेरै उपयोगी छ। सुनिश्चित गर्नुहोस् कि वेफर प्रशोधनको क्रममा अक्षुण्ण छ र चिप उत्पादनको गुणस्तर सुधार गर्नुहोस्।

VeTek अर्धचालकसिरेमिक ई-चक उत्पादन पसलहरू: