चीन UV एलईडी ससेप्टर निर्माता, आपूर्तिकर्ता, कारखाना

VeTek Semiconductor UV LED Susceptors मा विशेषज्ञता प्राप्त एक निर्माता हो, LED EPI ससेप्टरहरूमा धेरै वर्षको अनुसन्धान र विकास र उत्पादन अनुभव छ, र उद्योगमा धेरै ग्राहकहरु द्वारा मान्यता प्राप्त छ।

LED, अर्थात्, अर्धचालक प्रकाश-उत्सर्जक डायोड, यसको ल्युमिनेसेन्सको भौतिक प्रकृति यो हो कि अर्धचालक pn जंक्शन सक्रिय भएपछि, विद्युतीय क्षमताको ड्राइभ अन्तर्गत, सेमीकन्डक्टर सामग्रीमा इलेक्ट्रोनहरू र प्वालहरू मिलाएर फोटनहरू उत्पन्न गर्न सकिन्छ। अर्धचालक luminescence हासिल। तसर्थ, epitaxial टेक्नोलोजी LED को आधार र कोर मध्ये एक हो, र यो LED को विद्युतीय र अप्टिकल विशेषताहरु को लागी मुख्य निर्णायक कारक पनि हो।

Epitaxy (EPI) टेक्नोलोजीले एकल क्रिस्टल सब्सट्रेटमा सब्सट्रेटको रूपमा समान जाली व्यवस्थाको साथ एकल क्रिस्टल सामग्रीको वृद्धिलाई जनाउँछ। आधारभूत सिद्धान्त: उपयुक्त तापक्रममा तताइएको सब्सट्रेटमा (मुख्यतया नीलमणि सब्सट्रेट, SiC सब्सट्रेट र Si सब्सट्रेट), ग्यासयुक्त पदार्थ इन्डियम (इन), ग्यालियम (गा), एल्युमिनियम (अल), फस्फोरस (पी) सतहमा नियन्त्रण गरिन्छ। एक विशिष्ट एकल क्रिस्टल फिल्म बढ्नको लागि सब्सट्रेटको। वर्तमानमा, एलईडी epitaxial पाना को विकास प्रविधि मुख्यतया MOCVD (जैविक धातु रासायनिक मौसम बयान) विधि प्रयोग गर्दछ।

एलईडी epitaxial सब्सट्रेट सामग्री

1. रातो र पहेंलो एलईडी:

GaP र GaAs सामान्यतया रातो र पहेंलो LEDs को लागि सब्सट्रेट प्रयोग गरिन्छ। GaP सब्सट्रेटहरू तरल चरण एपिटेक्सी (LPE) विधिमा प्रयोग गरिन्छ, जसको परिणामस्वरूप 565-700 nm को फराकिलो तरंग दैर्ध्य दायरा हुन्छ। ग्यास फेज एपिटेक्सी (VPE) विधिको लागि, GaAsP एपिटेक्सियल तहहरू हुर्काइन्छ, 630-650 nm बीचको तरंग लम्बाइ दिन्छ। MOCVD प्रयोग गर्दा, GaAs सब्सट्रेटहरू सामान्यतया AlInGaP epitaxial संरचनाहरूको विकासको साथ नियोजित हुन्छन्। यसले GaAs सब्सट्रेटहरूको प्रकाश अवशोषण कमजोरीहरू हटाउन मद्दत गर्दछ, यद्यपि यसले जाली बेमेल परिचय दिन्छ, बढ्दो InGaP र AlGaInP संरचनाहरूको लागि बफर तहहरू आवश्यक पर्दछ।

VeTek सेमीकन्डक्टरले SiC कोटिंग, TaC कोटिंगको साथ LED EPI ससेप्टर प्रदान गर्दछ:

VEECO रातो र पहेंलो एलईडी EPI ससेप्टर LED EPI ससेप्टरमा प्रयोग गरिएको TaC कोटिंग

2. नीलो र हरियो एलईडी:

GaN सब्सट्रेट: GaN एकल क्रिस्टल GaN वृद्धिको लागि आदर्श सब्सट्रेट हो, क्रिस्टल गुणस्तर सुधार, चिप आयु, चमकदार दक्षता, र वर्तमान घनत्व। यद्यपि, यसको कठिन तयारीले यसको प्रयोगलाई सीमित गर्दछ।

नीलम सब्सट्रेट: नीलमणि (Al2O3) GaN वृद्धिको लागि सबैभन्दा सामान्य सब्सट्रेट हो, राम्रो रासायनिक स्थिरता र कुनै देखिने प्रकाश अवशोषण प्रदान गर्दैन। यद्यपि, यसले पावर चिप्सको उच्च वर्तमान सञ्चालनमा अपर्याप्त थर्मल चालकताको साथ चुनौतीहरूको सामना गर्दछ।

SiC सब्सट्रेट: SiC अर्को सब्सट्रेट हो जुन GaN वृद्धिको लागि प्रयोग गरिन्छ, बजार साझेदारीमा दोस्रो स्थानमा छ। यसले राम्रो रासायनिक स्थिरता, विद्युत चालकता, थर्मल चालकता, र कुनै देखिने प्रकाश अवशोषण प्रदान गर्दछ। यद्यपि, नीलमणिको तुलनामा यसको उच्च मूल्य र कम गुणस्तर छ। SiC 380 nm भन्दा कम UV LEDs को लागी उपयुक्त छैन। SiC को उत्कृष्ट विद्युतीय र थर्मल चालकताले नीलमणि सब्सट्रेटहरूमा पावर-प्रकार GaN LEDs मा तातो अपव्ययको लागि फ्लिप-चिप बन्डिङको आवश्यकतालाई हटाउँछ। माथिल्लो र तल्लो इलेक्ट्रोड संरचना शक्ति-प्रकार GaN LED उपकरणहरूमा तातो अपव्ययको लागि प्रभावकारी छ।

AMEC नीलो र हरियो एलईडी EPI ससेप्टर TaC कोटिंगको साथ MOCVD ससेप्टर

3. गहिरो UV LED EPI:

गहिरो पराबैंगनी (DUV) LED epitaxy, deep UV LED वा DUV LED Epitaxy मा, सामान्यतया प्रयोग हुने रासायनिक पदार्थहरूमा सब्सट्रेटहरू समावेश हुन्छन् जसमा एल्युमिनियम नाइट्राइड (AlN), सिलिकन कार्बाइड (SiC), र ग्यालियम नाइट्राइड (GaN) समावेश हुन्छन्। यी सामग्रीहरूमा राम्रो थर्मल चालकता, विद्युतीय इन्सुलेशन, र क्रिस्टल गुणस्तर छ, जसले तिनीहरूलाई उच्च-शक्ति र उच्च-तापमान वातावरणमा DUV LED अनुप्रयोगहरूको लागि उपयुक्त बनाउँछ। सब्सट्रेट सामग्रीको छनोट कारकहरूमा निर्भर गर्दछ जस्तै अनुप्रयोग आवश्यकताहरू, निर्माण प्रक्रियाहरू, र लागत विचारहरू।

SiC लेपित गहिरो UV एलईडी ससेप्टर TaC लेपित गहिरो UV एलईडी ससेप्टर