छिद्रपूर्ण ट्यान्टालम कार्बाइड

VeTek अर्धचालक पोरस ट्यान्टालम कार्बाइड (TaC) एक उच्च-प्रदर्शन सिरेमिक सामग्री हो जसले ट्यान्टलम र कार्बनको गुणहरू संयोजन गर्दछ। यसको छिद्रपूर्ण संरचना उच्च तापमान र चरम वातावरणमा विशिष्ट अनुप्रयोगहरूको लागि धेरै उपयुक्त छ। TaC ले उत्कृष्ट कठोरता, थर्मल स्थिरता र रासायनिक प्रतिरोधलाई संयोजन गर्दछ, यसलाई अर्धचालक प्रशोधनमा एक आदर्श सामग्री विकल्प बनाउँछ।

पोरस ट्यान्टालम कार्बाइड (TaC) ट्यान्टलम (Ta) र कार्बन (C) ले बनेको हुन्छ, जसमा ट्यान्टलमले कार्बन परमाणुहरूसँग बलियो रासायनिक बन्धन बनाउँछ, जसले सामग्रीलाई अत्यधिक उच्च स्थायित्व र पहिरन प्रतिरोध प्रदान गर्दछ। पोरस TaC को छिद्रपूर्ण संरचना सामग्रीको निर्माण प्रक्रियाको क्रममा सिर्जना गरिन्छ, र विशेष अनुप्रयोग आवश्यकताहरू अनुसार porosity नियन्त्रण गर्न सकिन्छ। यो उत्पादन सामान्यतया द्वारा निर्मित छरासायनिक वाष्प निक्षेप (CVD)विधि, यसको छिद्र आकार र वितरणको सटीक नियन्त्रण सुनिश्चित गर्दै।

ट्यान्टलम कार्बाइडको आणविक संरचना

VeTek अर्धचालक पोरस ट्यान्टालम कार्बाइड (TaC) सँग निम्न उत्पादन सुविधाहरू छन्:

- पोरोसिटी: छिद्रपूर्ण संरचनाले यसलाई ग्यास फैलावट, निस्पंदन वा नियन्त्रित गर्मी अपव्यय सहित विशिष्ट अनुप्रयोग परिदृश्यहरूमा विभिन्न प्रकार्यहरू दिन्छ।

- उच्च पिघलने बिन्दु: ट्यान्टालम कार्बाइडको अत्यधिक उच्च पिघलने बिन्दु लगभग 3,880 डिग्री सेल्सियस छ, जुन अत्यन्त उच्च तापक्रम वातावरणको लागि उपयुक्त छ।

- उत्कृष्ट कठोरता: पोरस TaC को मोहस कठोरता स्केलमा 9-10 को अत्यधिक उच्च कठोरता हुन्छ, हीरा जस्तै। , र चरम परिस्थितिहरूमा मेकानिकल पहिरन प्रतिरोध गर्न सक्छ।

- थर्मल स्थिरता: ट्यान्टालम कार्बाइड (TaC) सामग्री उच्च तापक्रम वातावरणमा स्थिर रहन सक्छ र बलियो थर्मल स्थिरता छ, उच्च तापक्रम वातावरणमा यसको लगातार प्रदर्शन सुनिश्चित गर्दै।

- उच्च थर्मल चालकता: यसको सच्छिद्रताको बावजुद, पोरस ट्यान्टलम कार्बाइडले अझै पनि राम्रो थर्मल चालकता कायम राख्छ, कुशल ताप स्थानान्तरण सुनिश्चित गर्दछ।

- कम थर्मल विस्तार गुणांक: ट्यान्टलम कार्बाइड (TaC) को कम थर्मल विस्तार गुणांकले महत्त्वपूर्ण तापमान उतार-चढ़ाव अन्तर्गत सामग्रीलाई आयामी रूपमा स्थिर रहन मद्दत गर्दछ र थर्मल तनावको प्रभावलाई कम गर्छ।

TaC कोटिंग को भौतिक गुण：

अर्धचालक निर्माणमा, पोरस ट्यान्टलम कार्बाइड (TaC) ले निम्न विशिष्ट मुख्य भूमिका खेल्छs:

उच्च-तापमान प्रक्रियाहरूमा जस्तैप्लाज्मा नक्काशीर CVD, VeTek अर्धचालक पोरस ट्यान्टलम कार्बाइड प्राय: प्रशोधन उपकरणहरूको लागि सुरक्षात्मक कोटिंगको रूपमा प्रयोग गरिन्छ। यो बलियो जंग प्रतिरोध को कारण होTaC कोटिंगर यसको उच्च-तापमान स्थिरता। यी गुणहरूले यो सुनिश्चित गर्दछ कि यसले प्रभावकारी रूपमा प्रतिक्रियाशील ग्यासहरू वा चरम तापक्रमहरूमा पर्दा सतहहरूलाई सुरक्षित गर्दछ, जसले गर्दा उच्च-तापमान प्रक्रियाहरूको सामान्य प्रतिक्रिया सुनिश्चित गर्दछ।

प्रसार प्रक्रियाहरूमा, पोरस ट्यान्टलम कार्बाइडले उच्च-तापमान प्रक्रियाहरूमा सामग्रीको मिश्रणलाई रोक्न प्रभावकारी प्रसार अवरोधको रूपमा सेवा गर्न सक्छ। यो सुविधा प्रायः आयन प्रत्यारोपण र अर्धचालक वेफर्सको शुद्धता नियन्त्रण जस्ता प्रक्रियाहरूमा डोपेन्टहरूको प्रसार नियन्त्रण गर्न प्रयोग गरिन्छ।

VeTek अर्धचालक पोरस ट्यान्टलम कार्बाइडको छिद्रपूर्ण संरचना सेमीकन्डक्टर प्रशोधन वातावरणको लागि धेरै उपयुक्त छ जसलाई सटीक ग्यास प्रवाह नियन्त्रण वा निस्पंदन चाहिन्छ। यस प्रक्रियामा, पोरस TaC ले मुख्य रूपमा ग्यास निस्पंदन र वितरणको भूमिका खेल्छ। यसको रासायनिक जडताले निस्पंदन प्रक्रियाको क्रममा कुनै प्रदूषकहरू प्रस्तुत गरिएको छैन भनेर सुनिश्चित गर्दछ। यसले प्रभावकारी रूपमा प्रशोधित उत्पादनको शुद्धताको ग्यारेन्टी गर्दछ।

ट्यान्टालम कार्बाइड (TaC) कोटिंग माइक्रोस्कोपिक क्रस-सेक्शनमा: