उन्नत छिद्रपूर्ण ग्रेफाइट

उन्नत पोरस ग्रेफाइट, नामले सुझाव दिए जस्तै, ग्रेफाइटको एक प्रकार हो जसमा यसको संरचनामा अन्तरलिङ्क गरिएको भोइड वा छिद्रहरू हुन्छन्। यी छिद्रहरूको आकार धेरै फरक हुन सक्छ, जसले सामग्रीको प्रदर्शन विशेषताहरूलाई असर गर्छ।

उन्नत पोरस ग्रेफाइटको विशेषताहरू:

ठूलो सतह क्षेत्र र बलियो सोखन क्षमता: छिद्रपूर्ण ग्रेफाइटको सबैभन्दा उत्कृष्ट फाइदाहरू मध्ये एक गैर-छिद्र ग्रेफाइटको तुलनामा यसको धेरै ठूलो सतह क्षेत्र हो, जसले यसलाई धेरै शोषक बनाउँछ।

उत्कृष्ट थर्मल र विद्युत चालकता: छिद्रपूर्ण ग्रेफाइटमा उत्कृष्ट थर्मल र विद्युतीय चालकता हुन्छ। यो गुण विशेष गरी अनुप्रयोगहरूमा महत्त्वपूर्ण छ जसलाई गर्मी अपव्यय वा विद्युतीय चालकता चाहिन्छ।

उत्कृष्ट मेकानिकल बल: छिद्रपूर्ण ग्रेफाइटको मेकानिकल बल यसको छिद्र संरचना र निर्माण प्रक्रियासँग सम्बन्धित छ। छिद्रपूर्ण ग्रेफाइटको मेकानिकल बल गैर-छिद्र ग्रेफाइट जत्तिकै राम्रो छैन, तर यसको यांत्रिक गुणहरू अझै उत्कृष्ट छन्।

रासायनिक जडता: ग्रेफाइट उत्पादनको रूपमा, छिद्रपूर्ण ग्रेफाइट रासायनिक रूपमा निष्क्रिय हुन्छ र संक्षारक वातावरणमा काम गर्न सक्छ। रासायनिक जडताले झरझरा ग्रेफाइटलाई रासायनिक प्रक्रियाहरूमा प्रयोग गर्न मद्दत गर्दछ जसलाई एसिड, आधारहरू र विलायकहरूको प्रतिरोध आवश्यक पर्दछ।

उत्पादन क्षमता र उच्च अनुकूलन योग्यता: छिद्रपूर्ण ग्रेफाइटको छिद्र संरचना धेरै तरिकामा अनुकूलित गर्न सकिन्छ। रासायनिक वाष्प निक्षेप जस्ता प्रविधिहरू ग्राहकले चाहेको छिद्र आकार र वितरण प्राप्त गर्न प्रयोग गर्न सकिन्छ।

उन्नत झरझरा ग्रेफाइटको अनुप्रयोगहरू:

SiC क्रिस्टल वृद्धि: अध्ययनहरूले देखाए कि SiC को क्रिस्टल वृद्धिमा, छिद्रपूर्ण ग्रेफाइटको प्रयोगले माइक्रोट्यूब्युल र अन्य दोषहरूको संख्या कम गर्न र क्रिस्टलमा अशुद्धता तत्वहरूको सामग्रीलाई कम गर्न मद्दत गर्दछ, त्यसैले छिद्रपूर्ण ग्रेफाइटले उत्पादनमा ठूलो मद्दत पुर्याउन सक्छ। SIC क्रिस्टल।

वेफर निर्माण: यसको उत्कृष्ट थर्मल चालकता र जंग प्रतिरोधको कारण, छिद्रपूर्ण ग्रेफाइट ग्रेफाइट डुङ्गा र ग्रेफाइट चकहरू जस्ता वेफर क्यारियरहरू निर्माण गर्न प्रयोग गर्न सकिन्छ। छिद्रपूर्ण ग्रेफाइटले उच्च तापक्रमको वातावरणमा स्थिर रूपमा काम गर्न सक्षम हुन्छ, वेफरलाई समान तापक्रम वितरण कायम राख्न मद्दत गर्दछ, यसरी प्रशोधन शुद्धता सुनिश्चित गर्दछ।

रासायनिक वाष्प निक्षेप (CVD) : पोरस ग्रेफाइट उच्च तापक्रम र रासायनिक रूपमा अक्रिय प्रतिरोधी छ, त्यसैले यसलाई प्रायः उच्च गुणस्तरको फिल्म निक्षेपलाई बढावा दिन CVD प्रक्रियाको भागको रूपमा रिएक्टर लाइनर र इलेक्ट्रोड सामग्रीको रूपमा प्रयोग गरिन्छ।

अर्धचालक यन्त्रहरूको गर्मी अपव्यय: छिद्रपूर्ण ग्रेफाइटको उत्कृष्ट थर्मल चालकताले यसलाई अर्धचालक उपकरणहरूमा तातो अपव्यय समाधानहरूको लागि एक आदर्श विकल्प बनाउँछ। यसलाई तातो सिङ्क वा थर्मल इन्टरफेस सामग्रीमा छिटो तातो अपव्यय गर्न र उपकरणको कार्य क्षमता र जीवन सुधार गर्न मद्दत गर्न सकिन्छ।

नक्काशी र नक्काशी प्रक्रियाहरू: सेमीकन्डक्टर निर्माणको सुक्खा नक्काशी प्रक्रियामा, छिद्रपूर्ण ग्रेफाइटलाई इलेक्ट्रोड सामग्री वा क्याथोड सामग्रीको रूपमा प्रयोग गर्न सकिन्छ, र यसको क्षरण प्रतिरोध र विद्युतीय चालकताले नक्काशी प्रक्रियाको स्थिरता र सटीकता सुनिश्चित गर्दै, संक्षारक प्लाज्माको क्षरणलाई सामना गर्न मद्दत गर्दछ।

उच्च शुद्धता आवेदन: छिद्रपूर्ण ग्रेफाइट अर्धचालक उद्योगको सामग्री शुद्धताको लागि कडा आवश्यकताहरू पूरा गर्न र अशुद्धताहरूको प्रभाव कम गर्न परिष्कृत गरिन्छ।

चीनमा एक पेशेवर उन्नत पोरस ग्रेफाइट निर्माता र आपूर्तिकर्ताको रूपमा, VeTek सेमीकन्डक्टरले विभिन्न प्रकारका उच्च-गुणस्तर ग्रेफाइट उत्पादनहरू प्रदान गर्दछ, जस्तै।TaC कोटिंग छिद्रपूर्ण ग्रेफाइट, आइसोट्रोपिक ग्रेफाइट, सिलिकनाइज्ड ग्रेफाइट, उच्च शुद्धता ग्रेफाइट पाना, SiC क्रिस्टल ग्रोथ पोरस ग्रेफाइट, आदि, र अनुकूलित प्रविधि र उत्पादन समाधान समर्थन गर्दछ। हामी ईमानदारीपूर्वक चीनमा तपाईंको दीर्घकालीन साझेदार बन्न तत्पर छौं र कुनै पनि समयमा तपाईंको परामर्शमा स्वागत छ।